超精密研磨抛光技术研究所

表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可镜面加工的标准分为四级 AO=Ra0008 μ m ， A1=Ra0016 μ m ， A3=Ra0032 μ m ， A4=Ra0063 μ m ，由于电解抛光流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光超声波抛光磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以。

超精密研磨和抛光时，所用的磨粒径一般在数微米以下为价止波加工件的氧化或因研磨液中的杂质引起表面划伤，一般要使用蒸馏水或去离子水研磨盘的主轴应有高的回转精度和刚度，且转速不宜太高，以免振动对加工表面产生不利的影响采用化学机械研磨和抛光由于伴随化学反应和水合反应，因而比纯机械研磨。

玻璃镜面加工的标准分为四级AO=Ra0008 μ m ，A1=Ra0016 μ m ， A3=Ra0032 μ m ，A4=Ra0063 μ m ，由于电解抛光流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光超声波抛光磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

1其加工精度可达纳米级1纳米=0001微米，表面粗糙度也可达到纳米级别这种技术广泛应用于精密仪器制造电子航空航天等工业领域超精密加工技术大致可分为两类，即超精度切削加工和超精密特种加工2超精度切削加工包括超精密车削镜面磨削研磨等，而超精密特种加工则包括机械化学抛光。

表面抛光一般只要求获得光亮表面即可 镜面加工标准分为四级AO=Ra0008μm，A1=Ra0016μm，A3=Ra0032μm，A4=Ra0063μm，由于电解抛光流体抛光等方法很难精确控制零件几何精确度，而化学抛光超声波抛光磁研磨抛光等方法表面质量又达不到要求，所以精密模具镜面加工还以机械抛光为主 21 机械抛光基本程序。

属于这类加工的有机械化学抛光离子溅射和离子注入电子束曝射激光束加工金属蒸镀和分子束外延等这些方法的特点是对表面层物质去除或添加的量可以作极细微的控制但是要获得超精密的加工精度，仍有赖于精密的加工设备和精确的控制系统，并采用超精密掩膜作中介物例如超大规模集成电路的制版就是。

表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可镜面加工的标准分为四级AO=Ra0008μm，A1=Ra0016μm，A3=Ra0032μm，A4=Ra0063μm，由于电解抛光流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光超声波抛光磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主 21 机械。